高度通用的超声波系统，用于可靠的微结构最终清洗

不得有大于1µm的颗粒

微结构领域的技术进步和加工更大基材的需要要求在波格游戏 Präzisionsoptik Gera安装新的最终清洁系统. UCM AG公司提出的设备解决方案得到了客户的认可. 它使清洁未经处理的晶圆以及结构和涂层基板成为可能. 可靠地满足“颗粒不大于1µm”的洁净度要求.

1991年，德国的蔡司工厂倒闭, 一群前高级管理人员领导了一项管理层收购，以保留和发展Gera光学制造的悠久传统, 由此诞生了波格游戏 Präzisionsoptik Gera GmbH. 如今，该公司拥有140名员工. 它发展并产生, 一方面，一方面, 定制光学精密零件, 用于整个光谱范围的元件和设备. 这些产品被世界各地的客户用于机械工程领域, 测量技术, 工业图像处理, 医疗设备, 激光技术, 还有半导体和航空航天工业. 另一方面, 作为标准化和定制光学微结构的制造商，该公司已获得国际声誉, e.g.，网网格和尺度网格，USAF分辨率目标，针孔孔径和校准目标. 在这部分，波格游戏可以处理所有内部开发和生产过程. “我们最近在技术选择范围和我们能够处理的基板尺寸方面扩大了微结构的制造. 因此, 需要一个新的最终清洗系统。”, Jan Schubach报道, 波格游戏的总经理之一.

要求最大程度的清洁

波格游戏的光学微结构主要由b270玻璃和石英玻璃构成, 以及从陶瓷和玻璃陶瓷基板. 最后的清洁步骤，用来清除灰尘, 未经处理的基材和添加结构和涂层后，抛光产品和指纹的超细残留物都是强制性的. 由于应用于基片的结构在某些情况下仅测量2 μ m, 洁净度要求颗粒不能大于1µm. 波格游戏在与各种设备制造商讨论其技术的同时，与外部顾问共同开发了一种解决方案，用于这些非常严格的清洁任务.

一个通用的清洁系统，而不是多种特殊类型

“我们正在为特殊用途寻找不同的清洁概念，例如清洁掩模或半导体行业的特定基板配置. 很可能，我们需要三个不同的系统来满足我们的需求. 这促使我们与UCM取得联系. 我们已经从这家设备制造商那里买了一套清洁系统, 我们的顾问, 太, 在公司的另一个项目中积累了很好的经验。”, Jan Schubach解释道. 瑞士UCM公司, 生态清洁组织的成员, 与波格游戏和顾问一起修改和调整设备概念. “UCM非常灵活地处理了我们的建议, 凭借自身在光学产品清洁系统制造方面的丰富经验, 总经理记得.

新的超声波清洗生产线共有11个工位, 包括7个浸入式水箱. 这些设计用于以下工艺步骤:湿加载, 多频超声波(40和80 kHz)清洗, megasonic清洁, 冲洗, fine-冲洗, 红外干燥在一个分度带式输送机, 和卸载.

湿装操作和所有清洗和漂洗过程都是用demin进行的. (完全脱盐的)水. 这取决于清洁程序, 冲洗水在级联循环中使用, 被丢弃的, 或者通过一个单独的排水管. 这种方法有助于提高清洗质量, UCM开发的四边溢流功能也是如此，该功能在所有坦克上都使用. 清洗液或漂洗液从下面进入储罐, 向上移动，然后从四面溢出. 因此，从产品中去除的异物将立即从罐中排出. 这避免了零件卸载过程中的再污染，同时也防止了在储罐中形成污垢袋. 此外，基材的处理非常彻底和均匀.

冲洗槽有另一个特殊的设计特点. 水以高压泵入这些水箱，从而引起湍流. 这就足够了, 与产品运动相结合, 目前在没有超声波辅助的情况下冲洗基材. 然而, 机械设备和控制系统都准备好支持未来的超声波集成，以便用户能够快速灵活地响应更严格的要求.

在洁净室全自动清洗

清洁系统集成在洁净室中. 待处理的基材, 尺寸达10英寸的, 是否手动放置在系统的处理架上的特殊磁带中. 然后操作员选择合适的特定零件清洗程序. 这被存储在系统的控制器中，并决定在每种情况下使用哪个站和哪些处理参数.g.超声波功率和频率，停留时间-应设置为每个水箱. 以确保准确地遵守每个站点的规定治疗时间, 柔性控制系统支持“优先时间”输入。. “我们目前正在为不同的基材开展10个项目，并从一开始就在所有清洁任务中取得了优异的效果. 清洁系统自2015年3月投入使用以来，一直运行平稳. 事实上, 我们没有看到这种复杂设备通常会遇到的任何初期问题。”, 简·舒巴赫满意地指出.


作者:Doris Schulz